satovac直联油回转真空泵P65D/P100D 这是一款采用两级转子压缩系统的 Gaede 旋片式油旋转真空泵。由于是高速运转的电机定向型，因此比皮带驱动型更紧凑，可以获得较大的排气速度。基于新的设计理念，这款 Lambda 系列更新了排气特性、运行噪音和振动等基本性能。此外，还考虑了用户友好性，采用大型油位计、可拆卸舱口和放油旋塞。这是一个新系列。

osakavacuum 真空设备溅射设备101 ◎作为罗茨真空泵的运行条件，吸入压力与背压之间存在允许压差。如果电机超出允许范围运行，电机会过载，发热量增加，无法冷却。因此，大阪真空的罗茨真空泵排◎变频控制，可从大气压驱动，吸入压力低时可进行压力控制。此外，根据型号和地区的不同，可以通过提高转速来提高排气速度（最多可提高 40% 左右）。（选项）

osakavacuum真空设备溅射设备101 ◎作为罗茨真空泵的运行条件，吸入压力与背压之间存在允许压差。如果电机超出允许范围运行，电机会过载，发热量增加，无法冷却。因此，大阪真空的罗茨真空泵排

osakavacuum干式真空泵风冷系列 FR060D ◎作为罗茨真空泵的运行条件，吸入压力与背压之间存在允许压差。如果电机超出允许范围运行，电机会过载，发热量增加，无法冷却。因此，大阪真空的罗茨真空泵排

osakavacuum液环真空泵W50S/WA50S/W30S ◎作为罗茨真空泵的运行条件，吸入压力与背压之间存在允许压差。如果电机超出允许范围运行，电机会过载，发热量增加，无法冷却。因此，大阪真空的罗茨真空泵排

osakavacuum油回转真空泵P90/P180/P222 ◎作为罗茨真空泵的运行条件，吸入压力与背压之间存在允许压差。如果电机超出允许范围运行，电机会过载，发热量增加，无法冷却。因此，大阪真空的罗茨真空泵排

osakavacuum罗茨真空泵RD/RA/R系列 ◎作为罗茨真空泵的运行条件，吸入压力与背压之间存在允许压差。如果电机超出允许范围运行，电机会过载，发热量增加，无法冷却。因此，大阪真空的罗茨真空泵排

osakavacuum 半导体材料研究涡轮分子泵 ST220F/ST350F/ST450F 涡轮分子泵系统集成TG-F系列涡轮分子泵与干式真空泵，实现高真空快速抽气，支持运行中移动，操作简便。广泛应用于半导体制造、薄膜沉积、表面分析、材料研究、真空镀膜及电子显微镜等需要高真空环境的工业与科研领域。

Osaka 半导体FPD真空排气磁悬浮涡轮分子泵 大阪真空TG420M磁悬浮涡轮分子泵是一款无油洁净型高性能真空排气设备，排气速度高达400L/s（N₂），适用于半导体制造、FPD面板生产、表面处理与改质、电子部品制造、分析测试仪器、光学元件制造、加速器与核聚变研究、热处理及各类科研实验等行业领域。

osaka太阳能制造加速空间模拟磁悬浮分子泵 大阪真空TGkine1700M-B磁悬浮分子泵，集成控制器与电源，节能紧凑，IP54防护，通过CE/NRTL/SEMI-S2认证。适用于太阳能电池制造、玻璃光学镀膜、薄膜镀膜、表面处理改性、LCD制造、半导体制造及加速器空间模拟等领域，提供高抽速与超高真空性能。